TOF-qSIMS飞行时间二次离子质谱仪设计用于多种材料的表面分析和深度剖析应用，包括聚合物，药物，超导体，半导体，合金，光学和功能涂层以及电介质，检测限低于1ppm。

离子分析质谱仪/飞行时间二次离子质谱仪可分析来自固体样品的二次阴、阳离子和中性粒子。采用技术的SIMS 探针，便于连结到现有的UHV表面科学研究反应室。

二次离子质谱仪适合做多层薄膜的深度分析,可以做元素成像和混合模式扫描，自动测量正、负和中性粒子。

MAXIM 二次离子溅射中性粒子质谱仪可分析二次阴、阳离子动态和中性粒子，所具备的的30°接受角可形成样品粒子平面，应用于SIMS和SNMS的光学采样。 ·光栅控制，增强深度分析能力 ·所有能量范围内，离子行程的小扰动，及恒定离子传输 ·灵敏度高 / 稳定的脉冲离子计数检测器